纳米制程相关工艺科普：用于不同半导体元件中将呈现不同含义

来源：中关村在线　2021-08-16 10:24:43

即便你不知道CPU的完整工艺，也一定听说过“刻蚀”“光刻”这样的名词，作为集成电路制造过程中最直接体现工艺先进程度的技术，光刻主要是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。

而且也是最能直接体现工艺先进程度的技术，而光刻技术的分辨率是指光刻系统能分辨和加工的最小尺寸，决定了硅片上形成符合质量规范要求的最小特征图形尺寸。

而我们最关心的纳米制程，用在不同的半导体元件上，又有不同的含义。对CPU来说，一般指晶体管中的最小栅极线宽。因为栅极线宽越小，那么单个晶体管的尺寸就越小，CPU die也会越小，意味着在相同的die面积下可以集成更多的晶体管，自然是蹭蹭地往上涨。

另一方面，由于栅极线宽变小，相应地工作电压也会变低，CPU的功耗也会随之降，而频率则会上升，这也就是我们听的最多的几句话：“xx纳米制程，功能提升xx%，功耗降低xx%，频率提升xx%”。

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